1、EUV光刻机
全球主要光刻机制造商包括荷兰的ASML（阿斯麦）、日本的尼康、佳能和中国的上海微电子，但高端光刻机EUV只有阿斯麦公司可以生产，而该光刻机的重要部件极紫外光源和微激光系统分别由美国公司Cymer和硅谷光刻集团提供。
这两家美国公司已于2000年和2012年被阿斯麦收购，但收购的条件是：阿斯麦必须在美国建立一座工厂和一所研发中心，以满足美国本土产能需求，还需要保证55%零部件均从美国供应商处采购，并接受定期审查。
根据销售额划分，2020年阿斯麦占领全球光刻机市场的91%。
目前中国大陆唯一顶尖的光刻机企业上海微电子（SMEE）量产的90nm光刻机也仅仅是阿斯麦公司十几年前的水准。
2、我们的努力
上海微电子与阿斯麦的差距，本质上是中国大陆和美国等西方国家在精密制造领域的差距，中国大陆制造的零部件达不到如此精密，这是我们必须补的课，目前已取得一定进展：
中国华卓精密生产的光刻机核心子系统双工件台打破了ASML技术垄断，成为继荷兰之后世界第二家掌握双工件台核心技术的公司。华卓精科的双工件台目前主要用于65纳米至28纳米浸没式光刻机的研发。
光源方面，主流的193nm（ARF）光源（DUV光源）已被中国大陆攻克，最先进的13.5nmEUV光源则正在努力攻坚中。科益虹源是中国唯一、世界第三家高能准分子激光器研发制造企业，但超高端EUV光源仍然唯有美国Cymer才能生产。
另外，2021年6月28日，由中科院高能物理研究院研制的中国首台高能同步辐射光源设备开始安装；哈工大实验室也已成功研制出12瓦DPP-EUV光源。
光刻机镜头方面，我国长春国科精密已经能生产90nmDUV光刻机镜头；而长春光机所研制的32nmEUV光刻曝光装置已经验收。
另外，中科科仪公司研发出了两大镀膜设备：直线式劳埃透镜镀膜装置和纳米聚焦镜镀膜装置，并在2021年6月28日正式投入使用。
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